
은(Ag) 도전성 페이스트
알루미늄 질화물(AlN) 기판에 대한 접착력과 신뢰성이 높은 도체 페이스트입니다.

알루미늄 질화물(AlN) 기판에 대한 접착력과 신뢰성이 높은 도체 페이스트입니다.

세라믹 기판에 대한 접착력과 신뢰성이 높은 도체 페이스트입니다.

CuAgTi 활성 금속 후막 페이스트로, 세라믹 기판에 우수한 접합 특성과 높은 신뢰성을 제공하며 다양한 전자 및 산업용 애플리케이션에 적합합니다.

전자용 후막 공정을 위해 설계된 고내열성 유리 페이스트로, 전자 응용 분야에 안정적인 보호 코팅층과 높은 신뢰성을 제공합니다.

비귀금속을 사용한 CuNi계 후막 저항 페이스트로, 소성 공정 후에도 안정적인 저항값을 유지합니다.

낮은 TCR 특성을 가진 LaB₆계 후막 저항 페이스트로, 중·고저항 영역에서 높은 정밀도와 신뢰성을 유지하며 칩 저항기, 저항 소자 및 가혹한 환경용 센서 애플리케이션에 적합합니다.

저온에서 우수한 소결 특성을 발휘하는 소결 보조제로, 도전성 페이스트의 전기전도도와 열전도도 향상에 기여합니다.

저온 소결이 가능한 은 나노입자 기술을 활용하여 인쇄 및 잉크젯 방식의 회로 형성을 지원하며, 프린티드 일렉트로닉스 분야의 발전에 기여합니다.

도전성 고체 전해 탄탈륨 전해 커패시터용 열경화형 도전 페이스트로, 침지 전극 및 리드 프레임 접합 용도에 적합합니다.

반도체 접합용 소결 페이스트로, 저온 소결이 가능하며 높은 열전도성과 우수한 접합 신뢰성을 제공합니다.